Analyse des exigences de performance descibles en titanedans différents secteurs
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I. Exigences de performance de base des cibles en titane
① Pureté : En tant que l'un des principaux indicateurs de performance des matériaux cibles, la pureté a un impact vital sur les performances des films minces. Dans les applications pratiques, les exigences en matière de pureté cible varient d'une industrie à l'autre. Par exemple, dans l'industrie microélectronique, avec l'augmentation continue de la taille des plaquettes de silicium et la diminution continue de la largeur des câbles, les exigences en matière de pureté cible augmentent également. Dans le passé, une pureté cible de 99,995 % pouvait répondre aux exigences du processus de 0.35um IC, mais désormais, la préparation de lignes 0.18um nécessite que la pureté cible atteigne 99,999 %, voire 99,9999 %.
② Teneur en impuretés : les impuretés présentes dans le solide cible ainsi que l'oxygène et la vapeur d'eau dans les pores sont les principales sources de pollution des films déposés. Par conséquent, les cibles destinées à des objectifs différents ont des exigences différentes en matière de teneur en impuretés. Par exemple, les cibles en aluminium pur et en alliage d'aluminium utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs ont des exigences particulières en matière de teneur en métaux alcalins et en éléments radioactifs.
③ Densité : Afin de réduire les pores du solide cible et d'améliorer les performances du film pulvérisé, la cible doit généralement avoir une densité plus élevée. La densité du matériau cible affecte non seulement la vitesse de pulvérisation, mais également les propriétés électriques et optiques du film. De plus, l’amélioration de la densité et de la résistance du matériau cible peut également lui permettre de mieux résister aux contraintes thermiques lors du processus de pulvérisation cathodique. La densité est donc également l’un des indicateurs clés de performance du matériau cible.
④ Taille des grains et répartition granulométrique : le matériau cible est généralement une structure polycristalline et la taille des grains peut varier du micron au millimètre. Pour un même matériau cible, la vitesse de pulvérisation d'une cible à grains fins est généralement plus rapide que celle d'une cible à grains grossiers ; et la répartition de l'épaisseur du film déposé par pulvérisation cathodique d'une cible présentant une petite différence de granulométrie (distribution uniforme) est plus uniforme.
2. Exigences de pureté pour les cibles en titane dans différentes industries
① Cibles en titane utilisées dans les circuits intégrés : les circuits intégrés ont des exigences de pureté extrêmement élevées pour les cibles en titane, généralement supérieures à 99,995 % pour garantir les performances et la stabilité du film.
② Cibles en titane utilisées dans les écrans plats : les écrans plats comprennent les écrans à cristaux liquides, les écrans plasma, les écrans électroluminescents et les écrans à émission de champ. Ces écrans utilisent souvent la technologie de revêtement par pulvérisation cathodique pour déposer des films minces pendant le processus de fabrication. Parmi elles, les cibles en titane, qui sont l'une des cibles de pulvérisation importantes, doivent généralement avoir une pureté supérieure à 99,9 %. En outre, les cibles en titane peuvent également être largement utilisées dans des domaines de haute technologie tels que l’électronique, l’industrie de l’information, la décoration intérieure et la fabrication de verre automobile. Dans ces industries, les cibles en titane sont principalement utilisées pour le revêtement de circuits intégrés, d'écrans plats ou comme décoration et revêtement de verre. En optimisant les performances et la pureté des cibles en titane, les exigences de différentes industries en matière de performances et de stabilité des films peuvent être satisfaites.
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